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SC007X型55V P沟VDMOS芯片

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简介     联系方式
     【技术开发单位】中国电子科技集团公司第二十四研究所

【技术概述】SC007X为分立器件芯片,内部只有1个单管器件。在器件结构上主要分为两部分:即元胞+终端。芯片内部由元胞阵列构成,在元胞区域的外围有终端场板结构,源和栅电极位于芯片正面,而漏极位于芯片背面。为了满足器件的参数要求,无胞的制造采用Trench MOSFET工艺加工,工艺特征尺寸为0.3µm。终端采用场限环加场板的技术。产品工作原理如下:当栅源电压VGS的绝对值大于器件的阈值电压VT的绝对值时,在栅极附近的N区形成强反型层即为P型沟道,在漏源电压VDS的作用下P+源区的电子通过反型层沟道,经由高阻漂移区至衬底漏极形成漏源电流。当VGS的绝对值小于阈值电压VT的绝对值,栅极下面不能形成反型层沟道,漏源之间是由反偏PN结所组成,由于漂移区的浓度较低则耗尽层主要向漂移区一侧扩展,这样就可以维持较高的击穿电压。作为功率器件,为实现大电流化,需在缩短沟道的同时,增大沟道宽度,即采用单位面积多个MOSFET单元集成的结构。另外,为了实现高电压,有必要降低N型层的杂质浓度,由此而引起导通电阻的增大可以适当通过增大芯片的面积来调整。

【主要技术指标】漏源击穿电压V(BR)DS:≤-55V

栅源击穿电压V(BR)GS:≥20V

阈值电压VTH:-3V ~ -1V

导通电阻Ron:≤0.09Ω

漏源泄漏电流IDSS:≤250μA

栅漏电流IGSS:≤1μA

峰值电流IDM:≤-15A

导通延迟时间tD(on):≤50ns

关断延迟时间tD(off):≤100ns

上升时间tr:≤50ns

下降时间tf:≤100ns

【先进程度】国内领先

【技术状态】批量生产、成熟应用阶段

【适用范围】雷达、TR组件、功率转换等领域。

【获奖情况】无。

【专利状态】无。

【合作方式】合作开发

【预期效益】本产品可用于功率转换的驱动电路中,预计年需求量百万只,给本单位和合作单位带来新的增长点,对经济和产业结构调整具有积极的意义,对促进人员就业、社会稳定具有重要的意义。

【联系方式】付晓君 023-65861085/13996221211

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